Ohne ASML-Systeme ging in Chinas Chipproduktion bislang nichts. Das soll sich langfristig ändern und nun könnten erste Erfolge zu verzeichnen sein, nachdem viele Institute und Unternehmen auf Drängen der Regierung enorm viel Zeit und Geld investiert haben. Die neue Anlage könnte demnach 300-mm-Wafer mit 8-nm-Chips produzieren.
Noch ist die Faktenlage recht dünn, Informationen aus China schwer zu bewerten. Sollte es allerdings stimmen, wäre dies für China ein sehr großer Schritt. Denn bisher hinkt das Land dem „Westen“ im Bereich der für eine moderne Chipproduktion notwendigen Technologien viele Jahre hinterher. Bislang werden eigene Lithographiesysteme nur bis zu einem Fertigungsniveau von 90 nm in der realen Produktion eingesetzt.
Im letzten Jahr kamen Berichte auf, dass es bald 28nm-Chips mit eigener Technologie geben könnte. Doch die Berichte, von denen einige bereits drei Jahre alt waren, verstummten wieder.
Ein (vorübergehend) geeigneter Ersatz für ASML?
Nun soll es denselben beteiligten Unternehmen, insbesondere Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) und Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC), gelungen sein, eine Maschine zu bauen, die 8-nm-Chips herstellen kann. Laut chinesischen Staatsmedien soll die Ministerium für Industrie und Informationstechnologie (MIIT) in der aktuellen Ausgabe von Leitfadenkatalog zur Förderung und Anwendung technischer Großgeräte (Ausgabe 2024) ein solches Gerät. Es soll sich dabei um einen sogenannten Dry-ArF-Scanner mit einer 193 nm-Lichtquelle handeln, der mittels Multi-Patterning, also Mehrfachbelichtungen, Chips mit diesen kleinen Strukturen erzeugen kann.
Dies wäre für die Unternehmen zwar ein gewaltiger Sprung nach vorne, aber natürlich wären sie damit noch lange nicht so weit fortgeschritten wie die fortschrittlichen Lösungen von ASML. Da der Massenmarkt aber ohnehin Chips von 14 bis 28 nm oder größer erfordert, wäre es dennoch ein großer Erfolg. Es käme besonders gelegen, da andere DUV-Geräte von ASML, die genau diesen Bereich abdecken könnten, vom Export nach China ausgeschlossen werden sollen.
Die Chipproduktion erfordert mehr
Doch natürlich reicht eine Lithographiemaschine wie die von ASML nicht aus, um einen modernen und funktionsfähigen Chip herzustellen. Es sind viele weitere Maschinen und Geräte nötig. Deshalb sind auch viele andere Hersteller wie LAM Research, Applied Materials, Tokyo Electron und diverse andere mit ihren Produkten in westlichen Fabriken vertreten, ohne die kein Chip die Fabrik verlässt. Dennoch gilt die Lithographieanlage als das Kernstück und am schwierigsten zu bewerkstelligende Puzzleteil, alle anderen Geräte folgen.
Der nächste Schritt soll eine Immersionsvariante sein, das große Ziel ist aber auch ein Pendant zu EUV. Die Hoffnung ist, 2025 und dann 2026 erste Erfolge präsentieren zu können. Offizielle Ankündigungen zu keiner dieser Lösungen gibt es bislang allerdings noch nicht.
